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真空電弧熔煉爐

更新時(shí)間:2024-11-06

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

瀏覽次數(shù):1035

簡(jiǎn)要描述:

真空電弧熔煉爐主要供大專院?;蚩蒲袡C(jī)構(gòu)在真空或保護(hù)氣氛下對(duì)少量(數(shù)十克至上百克)貴金屬或合金材料高熔點(diǎn)材料·難熔金屬等進(jìn)行熔化處理。通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料,使之成為合金。

推薦產(chǎn)品
詳細(xì)介紹
品牌盟庭儀器產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域地礦,能源,電子,冶金

真空電弧熔煉爐產(chǎn)品用途

非自耗真空電弧爐主要供大專院?;蚩蒲袡C(jī)構(gòu)在真空或保護(hù)氣氛下對(duì)少量(數(shù)十克至上百克)貴金屬或合金材料高熔點(diǎn)材料·難熔金屬等進(jìn)行熔化處理。

通過電弧放電的方式加熱并融化金屬原料,使之成為合金


產(chǎn)品結(jié)構(gòu)說明

真空電弧熔煉爐由爐體、上電極、下電極及爐蓋升降機(jī)構(gòu)、上電極旋轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu),吸鑄模具升降機(jī)構(gòu),真空系統(tǒng)及電源系統(tǒng)等組成。

爐體采用雙層水冷結(jié)構(gòu),內(nèi)外層為不銹鋼組焊接而成,并做表面啞光處理。結(jié)構(gòu)新穎外形美觀大方。

控制系統(tǒng)與爐體采用一體化設(shè)計(jì),并安裝有金屬模擬屏,操作按鈕按照功能用途集中模塊化布局,并配有模擬圖形,識(shí)別度高,方便操作。

下電極可裝有五個(gè)坩堝工位,一個(gè)吸鑄工位 移動(dòng)上電極可選擇一個(gè)進(jìn)行熔化。

上電極可上下移動(dòng),方便熔化操作。

爐側(cè)有一至二個(gè)觀察窗用來操作引弧,觀察窗上裝有墨色玻璃保護(hù)操作者眼睛。

真空系統(tǒng)采用二級(jí)泵,即K-200油擴(kuò)散泵(或者分子泵)和TRP-24直聯(lián)泵,操作無(wú)聲,無(wú)雜音。真空機(jī)組上設(shè)有水冷擋板、放氣閥及充氣閥。

電源控制采用電弧熔煉電源,安全系數(shù)高,穩(wěn)定性強(qiáng)。電路設(shè)有斷水報(bào)警及保護(hù)功能。


設(shè)備參數(shù)

1、型號(hào):DHL-1250

2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室,尺寸φ400X400mm

3、真空系統(tǒng)配置:機(jī)械泵、擴(kuò)散泵(分子泵)、擋板閥

4、極限壓力:≤6.67x10E-3Pa  ≤6.67x10E-4Pa  (分子泵)

5、熔煉電流:長(zhǎng)期工作電流700-1200A

6、熔煉坩堝:有五個(gè)工位 (半球窩SR25)、三個(gè)熔煉合金工位 (帶磁攪拌)、一個(gè)吸鑄工位、一個(gè)熔煉除氣工位

7、熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定): 50~80克

8、真空吸鑄裝置:提供標(biāo)準(zhǔn)噴鑄模具1套

9、電弧熔煉陰極裝置

10、引弧方式:高頻引弧

11、設(shè)備占地面積:1200*800*1600












 


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